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有關(guan)XRF的(de)常(chang)見術(shu)語和問答(da)3

和峰

和峰(Sum Peak)是(shi)由(you)于2個光子正好同時撞(zhuang)擊探測器而(er)產(chan)生(sheng)的偽峰。這2個光子被(bei)探測器捕(bu)獲,被(bei)識別為1個光子,如果2個光子能量相同,則和峰是(shi)正常能量的(de)二(er)倍。在具有高元素濃(nong)度的(de)XRF光譜中(zhong)更突出,可以(yi)通過降(jiang)低計數(shu)率來降(jiang)低和(he)峰(feng)。

逃逸峰

由于(yu)探測器中物質(zhi)(如Si)吸收光子的(de)一些能量而引起的(de)偽峰(E觀察到(dao)E入(ru)射 - E SiE Si1.74 keV)。當(dang)進入探測器(qi)的X 射線光子能量(liang)(liang)高于探測器物質的吸收(shou)限能量(liang)(liang)時,因(yin)該物質對(dui)本身(shen)被激發的特征X 射線呈現出(chu)高度的(de)透明,而導致這部分能量的(de)逃逸,結(jie)果在能譜上除了入射X 射線的主峰外,還會在(zai)較低能量位(wei)置出現一個(ge)逃逸峰(Escape peak),在具有高濃度元素和低Z元(yuan)素的XRF光譜(pu)中更突出。

逃逸峰高度約為主(zhu)峰的1/ 1000 到(dao)2/100,通常僅(jin)在(zai)強度取對數坐標的(de)譜(pu)圖中明顯可見,而且原子序數(shu)大(da)于30 的元素已(yi)基本不(bu)存在逃

光譜干擾

光譜干擾是在(zai)光譜中與(yu)待(dai)分(fen)析的元素的譜峰(感興趣區域(yu))重疊的峰。如: K線和L線重疊:SK線(xian)和MoL線(xian),ClKRhL線,AsKPbL線等(deng);相鄰(lin)元素重(zhong)疊:AlSiS和(he)ClKCa等(deng)。探測器的分辨率決(jue)定重(zhong)疊(die)程(cheng)度。





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能量分辨率

能量分辨率Energy resolution)是指(zhi),針對(dui)兩(liang)種不(bu)同能(neng)(neng)量(liang)(liang)的入射粒子(zi),探測器所(suo)能(neng)(neng)夠測定最(zui)小(xiao)的能(neng)(neng)量(liang)(liang)間隔。能(neng)(neng)量(liang)(liang)分(fen)辨率定義為FWHM(全(quan)能峰高度一半處的峰寬度)與(yu)峰(feng)位能(neng)量的比值,或(huo)直(zhi)接用(yong)FWHM表(biao)示,但需指明(ming)峰為能量(liang)。它表(biao)征了探測器對(dui)不同(tong)能量(liang)射線(xian)的辨能力,因此是譜(pu)儀探測器最(zui)重(zhong)要的性能指標。

能(neng)量分(fen)(fen)辨(bian)率與(yu)產生一(yi)個電子(zi)一(yi)空(kong)穴對所需的(de)(de)(de)(de)能(neng)量、入射粒(li)子(zi)的(de)(de)(de)(de)能(neng)量等(deng)有(you)關,還受探(tan)測器材(cai)料的(de)(de)(de)(de)反向漏電流、結(jie)電容、溫(wen)度、電子(zi)學噪(zao)聲和(he)反向偏(pian)壓(ya)等(deng)因素的(de)(de)(de)(de)影響(xiang)。實際測得的(de)(de)(de)(de)能(neng)量分(fen)(fen)辨(bian)率與(yu)探(tan)測器輸出信(xin)號的(de)(de)(de)(de)產生、傳遞、轉換、放大與(yu)收集(ji)等(deng)過程有(you)關。若(ruo)有(you)用信(xin)號越強(qiang),干擾因素越弱,則能(neng)量分(fen)(fen)辨(bian)率越好。

基體效應

基體(ti)(Matrix)是樣品中不包(bao)括分析元素本身的其他(ta)組成。

基體效應(Matrix Effects)就是(shi)樣品的基本化學組成和(he)物理化學狀態差(cha)異對分析線強度(du)的綜(zong)合影響。

基(ji)體效(xiao)應(ying)通常(chang)分為二(er)類,吸收增強效(xiao)應(ying)和物理(li)化(hua)學(xue)效(xiao)應(ying)。




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